為了完善測量PID控制系統,可以用幾個方法

眾所周知的事實是,到目前為止,最好的控制方法是感測切割電壓。切割電壓與割炬和工件之間的高度成正比;距離越遠,電壓越高,反之亦然。因此,可以輕鬆地將切割電壓作為PID控制參數,並將其用於控制間隔距離。這種PID控制方法通常稱為AVC(電弧電壓感應)。感應電弧電壓並非沒有挑戰。割炬受到高頻引弧的作用,產生等離子。該HF可以輕鬆地返回到敏感的電壓測量電路,並損壞/引起系統故障。將測量電路與等離子體HF隔離開來,同時又能夠準確地測量電壓,這一點絕對至關重要。高度靈敏的電弧電壓PID控制電路可以檢測到小於0.5V的電壓變化。通過使用霍爾傳感器,可以實現準確的測量以及隔離。
沉積技術的主要類別是蒸發,它涉及在高真空室內加熱固體材料,使其達到產生一定蒸汽壓的溫度。在真空內部,即使相對較低的蒸氣壓也足以在腔室內產生蒸氣雲。該蒸發的材料在腔室的表面上凝結為塗層或“薄膜”。這種方法,包括通常用於其上的腔室設計的一般類型,是通過使用石英晶體成功PID控制速率和厚度的極佳選擇。
這種類型的測量和PID控制背後的關鍵概念是,可以將振盪器晶體適當地安裝在真空室內,以實時接收沉積並受到可測量方式的影響。具體而言,隨著晶體質量的增加,沉積在晶體上的材料會降低振盪頻率。為了完善測量PID控制系統,電子儀器會連續讀取頻率並執行適當的數學功能,以將頻率數據轉換為厚度數據(瞬時速率和累積厚度)。https://tw.azbil.com/info_category/pid%E6%8E%A7%E5%88%B6%E5%99%A8-%E8%A8%98%E9%8C%84%E5%99%A8/